三、解决容量危机:垂直磁化技术剖析( d; H% i2 ?3 i. s
7 g9 a8 y, s4 K' C9 Q2 |平心而论,近几年硬盘技术的发展相当缓慢。相对于CPU、显卡等呈几何倍数的增长趋势,硬盘似乎有些郁郁寡欢。在容量方面,80GB在2001年年底就已经是主流了,而时至今日80GB仍然作为主流硬盘容量活跃在市场上。不过随着垂直磁化技术浮出水面,硬盘容量将会有巨大的突破,真正解决这场迫在眉睫的容量危机。
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, i9 L) x1 M" @- l3 `9 M1. 为何存储密度无法提高/ s. l$ t1 Q/ Q- U& W, f
由于硬盘内集成的盘片数不可能很多,因此单碟容量上的突破就显得很有必要。单碟容量的提高意味着生产厂商研发技术的提高,这所带来的好处不仅是使硬盘容量得以增加,而且还会带来硬盘性能的相应提升。
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小知识:单碟容量对于提高速度的帮助6 F$ g' |$ x6 Y) I( x# @9 |
单碟容量的提高就是盘片磁道密度(每英寸的磁道数)的提高,磁道密度的提高不但意味着提高了盘片的磁道数量,而且在磁道上的扇区数量也得到了提高,所以盘片转动一周,就会有更多的扇区经过磁头而被读出来,这也是相同转速的硬盘单碟容量越大内部数据传输率就越快的一个重要原因。此外单碟容量的提高使线性密度(每英寸磁道上的位数)也得以提高,有利于硬盘寻道时间的缩短。; h) J$ M9 X" z. L
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在硬盘技术发展初期,提升磁盘的存储密度十分容易,此时也就是更大的单碟容量。然而,目前硬盘厂商却碰到了难题。盘片是在铝制合金或者玻璃基层的超平滑表面上依次涂敷薄磁涂层、保护涂层和表面润滑剂等形成的。盘片以4200RPM~15000RPM的转速转动,磁头则做往复的直线运动,而可以在盘片上的任何位置读取或者写入信息。微观的来看,盘片上的薄磁涂层是由数量众多的、体积极为细小的磁颗粒组成。多个磁颗粒(约100个左右)组成一个记录单元来记录1bit的信息——0或者1。
2 d+ f+ d$ X) j/ T4 F2 Z" J- j 这些微小的磁颗粒极性可以被磁头快速的改变,而且一旦改变之后可以较为稳定的保持,磁记录单元间的磁通量或者磁阻的变化来分别代表二进制中的0或者1。磁颗粒的单轴异向性和体积会明显的磁颗粒的热稳定性,而热稳定性的高低则决定了磁颗粒状态的稳定性,也就是决定了所储存数据的正确性和稳定性。但是,磁颗粒的单轴异向性和体积也不能一味地提高,它们受限于磁头能提供的写入场以及介质信噪比的限制。当磁颗粒的体积太小的时候,能影响其磁滞的因素就不仅仅是外部磁场了,些许的热量就会影响磁颗粒的磁滞(譬如室温下的热能),从而导致磁记录设备上的数据丢失,这种现象就是“超顺磁效应”。0 @" V. K, ^, D0 k6 a& P/ i
& J, K# i, s7 ?4 J2 Y8 k9 W$ A: \2. 垂直磁化存储技术的奥秘
! R* i6 @- M0 m% o( S+ W 为了尽可能的降低“超顺磁效应”,业界通过提高磁颗粒异向性、增加热稳定性来解决。磁颗粒异向性的提高固然使得磁记录介质更加稳定,但是必需同时提高写入磁头的写入能力。另外,磁颗粒体积的缩小,也需要进一步提高读取磁头的灵敏度,于是MR磁阻磁头和GMR巨磁阻磁头相继应运而生。GMR磁头技术的水平记录区域密度已经达到了133Gbit以上,然而133Gbit还远远不够,为了实现更大的存储密度,必须再缩小磁颗粒,此时“超顺磁效应”就成为最头疼的问题。
" ?: I' Q/ @ R2 i! e2 E 垂直磁化记录从微观上看,磁记录单元的排列方式有了变化,从原来的“首尾相接”的水平排列,变为了“肩并肩”的垂直排列。磁头的构造也有了改进,并且增加了软磁底层。这一改变直接解决了“超顺磁效应”,并且可以将硬盘的单碟容量提高到400GB左右,这为今后的容量突破提供了充足的空间。7 O6 P. b. B* d1 c! C
垂直记录的另一个好处是相邻的磁单元磁路方向平行,磁极的两端都挨在一起,而纵向记录相邻的磁单元只在磁极一端相接,因此这项技术对于稳定性的改进也是颇有成效的。另外值得我们高兴的是,垂直磁化技术的出现对于硬盘速度是有巨大贡献的。仅仅是单碟容量的提升就足以我们欢欣鼓舞,我们可以因此而期待更高的内部传输率。此外,垂直磁化技术要求磁头在技术上有所改进,此时也能加强寻道能力。不过更为重要的还是垂直磁化与高转速技术相结合。据悉,在磁盘存储密度大幅度提高之后,高转速变得更有实际意义。此前SCSI硬盘尽管实现了15000RPM,但是实际持续内部传输率却并不高。而当垂直磁化技术普及应用之后,我们有望看到桌面硬盘顺利迈向10000RPM级别,并且展现出更加完美的性能。 |